ORC廣州代理，ORC UV照度設備 HMW-615N-3歐阿希
ORC廣州代理，ORC廣州代理，.，ORC廣州代理 日本ORC,UV照度設備HMW-615N-3; 1.基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い獨自の低圧ＵＶランプを搭載しています。 2.基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。 3.基板はあまり加熱されません。 4.オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用でき
- 型號：
1.基板にダメージが少なく、有機物を分解する能力の高い獨自の低圧ＵＶランプを搭載しています。
2.基板を揺動するモードを利用すると、基板にUV光量が均等に照射されます。
3.基板はあまり加熱されません。
4.オゾンをカットする照射方式も、窒素ガスをパージする照射方式も適用できます。
其他型號：
HMW-615N-4，VUM-3073F。日本ORC,UV照度設備HMW-615N-3;
半導體製造プロセス、液晶基板製造プロセス等微細なパターンを形成する工程において、基板の表面に殘る有機物に、UVを照射して有機物汚染を非接觸で除去する裝置です。基板イダメージを與えずに表面の洗浄と改質が出來ます。
另外一款VUM-3073F產品圖：
日本ORC,UV照度設備HMW-615N-3;
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